为什么中国生产不了光刻机 目前我国有攻克光刻机吗(2)

那么华为不可以找台积电代加工芯片么？问题还是出在光刻机这里，由于台积电很多芯片生产技术是美国的，所以美国可以通过专利技术限制台积电为华为代工芯片。

不过上海微电子出产的这台28nm光刻机将打破这一现状，它也属于DUV光刻机的范畴。对于我国来说，光刻机技术的进步，将有利于国产芯片自主化的发展。再也不怕美国人在芯片上卡中国企业的脖子。

一旦成功实现28nm光刻机组织下线，国内就可以打造完全自主化的芯片生产线。目前14nm和28nm的芯片可以满足国内90%的需求。并且中芯国际已经宣布突破了7nm芯片的工艺，有望在6月份实现量产。

最主要的是，中芯国际的7nm芯片工艺也是通过DUV光刻机实现的。而此时上海微电子又宣布成功突破了28nm的光刻机，并且在不久之后交付一台给中芯国际，这无疑是国产芯片打了一个漂亮的翻身仗。

就在网友为此欢呼的时候，我国科学家吴汉民院士却泼了网友一头冷水，他表示最高端的EUV光刻机一台得1亿多美元，需要英美日德等多个国家的高端技术协作才能生产出来。

里面大概有10万多零部件，全世界超过5000家供应商，荷兰的ASML也是属于组装的高端光刻机。中国要独力制造EUV光刻机的话，不太现实，也需要参与到全球化当中。

吴院士的话意思很明显，主要有两个点。第一层就是说虽然中国制造出了DUV光刻机，但这离最顶尖的光刻机还有差距，而且这些技术被欧美等发达国家垄断掌握，我们还需要进步。那么荷兰ASML的EUV光刻机，有什么厉害之处呢？

EUV光刻技术的研发最早源于1996年，被国际半导体技术发展路线图确定为下一代的首先光刻技术。之后，美国、欧洲和日韩纷纷参与角逐。

其中美国参与EUV光刻技术的研究机构超过50家，欧洲下的血本最大，超过35个国家、110个研发机构参与到该技术研究。日韩也是举国之力来参与其中。

经过20多年的激烈竞争，最终胜出的是美国，掌握了绝大部分的技术专利。这也是EUV光刻机出口需要美国点头的原因，而美国禁止ASML出口EUV光刻机给中国。