中国首台7纳米光刻机 国产最新光刻机多少纳米

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7nm中国芯试产

随着科技的高速的发展，手机等智能电子产品对芯片的性能要求越来越高，由于国内半导体行业的水平与发达国家存在着一定的技术差距，每年都要从外进口近3000亿美元的芯片。

然而，随着我国在越来越多的科技领域实现零的突破，成为业内领头羊，让美国感受到了压力，为了巩固自己世界第一科技大国的地位，便开始对我国企业进行打压，芯片断供成为其目前打压我国企业最常用的手段，也是最有效的。

尽管美国的芯片断供在一定程度上限制住了我国企业发展的速度，但是我们并没有选择妥协退让，而是知难而上，加大了科研的力度，并且取得了不错的成绩。

近日，据国内多家媒体报道，中芯国际自主研发的“N+1”芯片制程工艺已经成熟，可以绕过EUV光刻机制造出7nm芯片，且将在4月份进行风险量产。

前不久，中芯国际正式与荷兰ASML公司签订近12亿美元的DUV光刻机采购协议，而中芯国际的7nm芯片就是在DUV光刻机制造的，不得不说，中国科学家是最有智慧的一批人，可以做到别人认为几乎不可能的事情。

除此之外，中芯国际也传出关于5nm芯片制程工艺的好消息，已取得多项关键技术的突破，预计将在2023年进行量产。